フォトニック結晶の製作
かつてフォトニック結晶の製作は難しく，1993年以前はミリメートル周期の大きな構造がドリルなどを用いて製作され，波長が長い電磁波を使って評価されていた．本研究室は米カリフォルニア工科大，米サンディア研究所，英グラスゴー大などと同時期に半導体サブミクロン構造の製作に着手，1995年，試作した構造の光制御効果を初めて観測するなど，世界をリードする成果を発表してきた．特に本研究室は，単に加工が容易なシリコンやガリウム砒素といった一般的な半導体を避け，光通信に適したインジウム隣系半導体を用いた製作を行っている．
電子ビーム描画とドライエッチングにより，半導体2次元フォトニック結晶を製作・評価している．特に光通信波長帯に対応したインジウム燐系半導体に対しては，世界最高レベルの加工を実現している．左から微細円柱蜂の巣配列の俯瞰図，側面図，円孔配列結晶の側面図．下のバーは幅1ミクロンを表す．
1993年度高麗，1994年度松崎，1995〜1997年度池田，神澤，1998年度〜 井下，深谷，和泉